Фотолитография: определение, значение, синонимы, предложения
Фотолитогра́фия — метод получения определённого рисунка на поверхности материала, широко используемый в микроэлектронике и других видах микротехнологий, а также в производстве печатных плат. Один из основных приёмов планарной технологии, используемой в производстве полупроводниковых приборов.
Суть процесса фотолитографии сводится к тому, что вначале на обрабатываемую поверхность наносится тонкая фоточувствительная полимерная плёнка (фоторезист). Затем эта плёнка засвечивается через фотошаблон с заданным рисунком. Далее проэкспонированные участки удаляются в проявителе. Получившийся на фоторезисте рисунок используется для таких технологических этапов планарной технологии, как травление, электроосаждение, вакуумное напыление и другие. После проведения одного из этих процессов оставшийся, не удалённый при проявлении, фоторезист также удаляется.
Принципиальное отличие фотолитографии от других видов литографии заключается в том, что экспонирование производится светом (видимым или ультрафиолетовым), тогда как в других видах литографии для этого используется рентгеновское излучение (рентгеновская литография), поток электронов (электронно-лучевая литография) или ионов (ионно-лучевая литография) и другое.
Наименьшие размеры деталей рисунка, достижимые в фотолитографии (разрешение), определяются: длиной волны используемого излучения, качеством применяемой при экспонировании оптики, свойствами фоторезиста и достигают 100 нм. Применение специальных методов (иммерсионная литография) теоретически позволяет получить разрешение до 11 нм[источник не указан 1434 дня].
литография, оттиск
Конституция была опубликована в Дехрадуне и фотолитографирована в обзоре Индии. |
Другие процессы называются фотошаблонами и фотолитографией. |
В отличие от светодиодов, формы элементов в ЖК-панели произвольны, так как они формируются на дисплее с помощью фотолитографии. |
Частицы в UPW являются проклятием полупроводниковой промышленности, вызывая дефекты в чувствительных фотолитографических процессах, которые определяют нанометровые характеристики. |
К этой категории относятся методы микропаттернирования, такие как фотолитография и струйная печать. |
Начиная с 1960-х годов, фотолитография играет важную роль в изготовлении и массовом производстве интегральных схем в микроэлектронной промышленности. |
- электронно-лучевая фотолитография - electron beam photo lithography
- контактная фотолитография с источником дальнего УФ-излучения - deep ultra violet contact photo lithography
- бесконтактная фотолитография - contactless photo lithography
- обратная фотолитография - liftoff photo lithography
- фотолитография по всей пластине - full wafer photo lithography
- фотолитография сканированием пучка - beam writer photo lithography
- контактная фотолитография - contact photo lithography
- стандартная фотолитография - conventional photo lithography
- контактная фотолитография с источником дальнего УФ излучения - deep uv contact photo lithography
- фотолитография с источником дальнего УФ-излучения - deep uv photo lithography
- двусторонняя фотолитография - dual surface photo lithography
- прецизионная фотолитография - fine line photo lithography
- фотолитография фокусируемым ионным пучком - focused ion beam photo lithography
- фотолитография на длине волны 365 нм - i-line lithography
- фотолитография с микрозазором - proximity printing photolithography
- фотолитография с позитивным резистом - positive-resist photolithography
- фотолитография с негативным резистом - negative-resist photolithography